KELISAIKE氣體分析儀KF200系列

KF200系列激光氣體分析儀是針對工業(yè)在線分析、在線環(huán)境監(jiān)測而開發(fā)的。它基于半導體激光吸收光譜（DLAS）技術(shù)，具有一體化設計、高集成度的特點。 擁有KF200系列激光氣體分析儀的多種型號，包括原位探測型、旁通型、多通道和盤裝型等，可檢測O 2、CO、NH 3、CO 2等氣體， CH 4、H 2 O、HC、HF等都可以進行分析。目標氣體的濃度分析包括宏觀分析和微觀分析。

• 原位在線氣體分析采用TDLAS技術(shù)
• 雙防探頭設計，無需正壓吹掃，無需額外的數(shù)據(jù)處理單元，結(jié)構(gòu)簡單緊湊，可靠性高
• 采用大功率激光器，無光纖耦合，適用于惡劣工況（如灰塵過多）

工作原理：

利用電流和溫度調(diào)制激光（可調(diào)諧）波長，掃描被測氣體的特定吸收峰（無背景氣體吸收），得到氣體吸收的二次諧波。通過使用二次諧波信息和氣體的展寬，可以計算出氣體的濃度。

• 線性誤差：≤ ±1％ F.S.
• 跨度漂移：≤ ±1％ F.S./6個月
• 重復性：≤ 1％
• 校準周期：≤1次/6個月
• 防爆等級：Ex d IIC T6
• 防護等級：IP66
• 預熱時間：≤ 15 min
• 響應時間(T90)：≤ 1 s
• 模擬輸出：2線4-20 mA信號輸入（隔離，max負載750 Ω）
• 繼電器輸出：3線繼電器（24 V,1A）
• 數(shù)字通訊：RS485/RS232/GPRS
• 模擬量輸入：2路4-20mA輸入（溫壓補償）
• 儲存溫度：-30℃ ～ +60℃
• 環(huán)境溫度：-40℃ ～ +80℃
• EMC：IEC 6100-4-2、IEC 6100-4-3、IEC 6100-4-4、IEC 6100-4-5、IEC 6100-4-11
• 氣體噴射：0.3 ～ 0.8 MPa 工業(yè)氮氣入口和凈化儀表氣體等。
• 消耗：＜ 20 W
• 電源：24 V DC (18-36 V DC), 220 V AC